产品详情 公司简介
KRI
型号RFICP 140
Discharge 阳极RF 射频
离子束流 600 mA
离子动能100-1200 V
栅极直径14 cm Φ
离子束聚焦, 平行, 散射
流量5-30 sccm
通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他
典型压力< 0.5m Torr
长度24.6 cm
直径24.6 cm
中和器LFN 2000
KRI
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.
若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论, 请联络上海伯东邓女士, 分机134
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