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上海伯东 KRI 射频离子源 RFICP 140

价格:面议
发布时间:2023-05-31 10:31:46
139188***
来电时,请说明是在书生商务网看到的
  • 主营产品:
    分子泵,检漏仪,冷冻机,高低温测试机
  • 公司地址:
    上海市外高桥保税区希雅路33号17号楼3层20
  • 经营模式:
    贸易型
  • 联系人:
    叶小姐

产品详情 公司简介

因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,以实际成交合同为准。

上海伯东代理美国原装进口KRI 射频离子源 RFICP140是一款紧凑的有栅极离子源,非常适用于离子束溅射沉积,离子辅助沉积和离子束刻蚀.在离子束溅射工艺中,射频离子源 RFICP140配有离子光学元件,可以很好的控制离子束去溅射靶材,实现好的薄膜特性.同样的在离子束辅助沉积和离子束刻蚀工艺中,好的离子光学元件能够完成发散和聚集离子束的任务.就标准的型号而言,可以在离子能量为100~1000eV范围内获得很高的离子密度.可以输出大600mA离子流

 

KRI 射频离子源 RFICP140技术参数:

型号RFICP 140

Discharge 阳极RF 射频

离子束流 600 mA

离子动能100-1200 V

栅极直径14 cm Φ

离子束聚焦, 平行, 散射

流量5-30 sccm

通气Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型压力< 0.5m Torr

长度24.6 cm

直径24.6 cm

中和器LFN 2000

KRI 射频离子源 RFICP140应用领域:

预清洗

表面改性

辅助镀膜(光学镀膜)IBAD,

溅镀和蒸发镀膜PC

离子溅射沉积和多层结构

离子蚀刻IBE 

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论, 请联络上海伯东邓女士, 分机134

温馨提示:以上关于上海伯东 KRI 射频离子源 RFICP 140的详细介绍,产品由伯东企业(上海)有限公司为您提供,如果您对伯东企业(上海)有限公司产品信息感兴趣可以 联系供应商 或者让伯东企业(上海)有限公司主动联系您,您也可以查看更多与上海伯东 KRI 射频离子源 RFICP 140相关的产品!
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