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上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 75

价格:面议
发布时间:2023-05-31 10:34:03
139188***
来电时,请说明是在书生商务网看到的
  • 主营产品:
    分子泵,检漏仪,冷冻机,高低温测试机
  • 公司地址:
    上海市外高桥保税区希雅路33号17号楼3层20
  • 经营模式:
    贸易型
  • 联系人:
    叶小姐

产品详情 公司简介

因产品配置不同,价格货期需要电议,图片仅供参考,以实际成交合同为准。

上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 75:紧凑栅极离子源,离子束直径 14 cm ,可安装在 8“CF法兰. 适用于中小型腔内, 考夫曼离子源 KDC 75 包含2个阴极灯丝, 其中一个作为备用,KDC 75 提供紧密聚焦的电子束特别适合溅射镀膜. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 250 mA.

KRI 考夫曼离子源 KDC 75 技术参数:

型号KDC 75 / KDC 75L(低电流输出)

供电DC magnetic confinement

 - 阴极灯丝2

 - 阳极电压0-100V DC

电子束OptiBeam™

 - 栅极专用, 自对准

 -栅极直径7.5 cm

中和器灯丝

电源控制KSC 1212 或 KSC 1202

配置-

 - 阴极中和器Filament, Sidewinder Filament  或LFN 2000

 - 安装移动或快速法兰

 - 高度7.9'

 - 直径5.5'

 - 离子束聚焦

平行

散设

 -加工材料金属

电介质

半导体

 -工艺气体惰性

活性

混合

 -安装距离6-24”

 - 自动控制控制4种气体

* 可选: 一个阴极灯丝; 可调角度的支架

KRI 考夫曼离子源 KDC 75 应用领域:

溅镀和蒸发镀膜 PC

辅助镀膜(光学镀膜)IBAD

表面改性,SM

离子溅射沉积和多层结构 IBSD

离子蚀刻 IBE

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美国创立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研发生产考夫曼离子源, 霍尔离子源和射频离子源. 美国考夫曼离子源历经 40 年改良及发展已取得多项专利. KRi 离子源广泛用于离子清洗 PC, 离子蚀刻 IBE, 辅助镀膜 IBAD, 离子溅射镀膜 IBSD 领域, 上海伯东是美国考夫曼离子源中国总代理.

若您需要进一步的了解产品详细信息或讨论, 请联络上海伯东邓女士, 分机134

温馨提示:以上关于上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 75的详细介绍,产品由伯东企业(上海)有限公司为您提供,如果您对伯东企业(上海)有限公司产品信息感兴趣可以 联系供应商 或者让伯东企业(上海)有限公司主动联系您,您也可以查看更多与上海伯东 KRI 考夫曼离子源 KDC 75相关的产品!
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